一、 核心價(jià)值與定位

Shinkuu MSP-1S 是一款專為掃描電鏡（SEM）樣品制備設(shè)計(jì)的臺式磁控濺射儀。它通過磁控濺射技術(shù)在非導(dǎo)電或弱導(dǎo)電樣品表面沉積一層納米級金屬薄膜（如金、鉑等），解決樣品在電鏡下的荷電問題，并增強(qiáng)二次電子發(fā)射率，從而獲得更清晰、真實(shí)的微觀結(jié)構(gòu)圖像。

核心設(shè)計(jì)理念：操作簡便、緊湊便攜、樣品友好。其浮動式樣品臺和磁控管靶電極的設(shè)計(jì)，在保證鍍膜效果的同時(shí)，最大限度地減少了對敏感樣品的潛在損傷。

二、 關(guān)鍵應(yīng)用場景詳解

三、 操作流程與參數(shù)優(yōu)化指南

標(biāo)準(zhǔn)操作流程：

1. 樣品準(zhǔn)備：確保樣品干燥、清潔、尺寸適合樣品臺（Φ<120mm）。

2. 放置樣品：將樣品置于浮動樣品臺上。

3. 設(shè)置參數(shù)：核心參數(shù)為濺射電流與濺射時(shí)間。

4. 開始鍍膜：關(guān)閉艙門，啟動設(shè)備，過程全自動。

5. 取出樣品：完成后，取出樣品立即進(jìn)行電鏡觀察。

參數(shù)優(yōu)化建議：

• 鍍膜厚度控制：鍍膜厚度由濺射電流和時(shí)間共同決定。

• 常規(guī)觀察（500 - 20,000倍）：中等電流，時(shí)間約60-120秒，形成約5-10nm薄膜。

• 高倍率觀察（>30,000倍）：使用Pt或Pt-Pd靶，采用較低電流和稍長時(shí)間（如90-180秒），以獲得更薄、更細(xì)膩的鍍層，避免掩蓋樣品細(xì)節(jié)。

• 靶材選擇策略：

• 金（Au）：通用快速，適合教學(xué)、常規(guī)檢測和中低倍率觀察。

• 金-鈀（Au-Pd）：標(biāo)準(zhǔn)均衡，顆粒更細(xì)，適用倍率范圍廣（1萬-5萬倍），是大多數(shù)情況下的穩(wěn)妥選擇。

• 鉑（Pt）/鉑-鈀（Pt-Pd）：高分辨選擇，顆粒最細(xì)小，適用于5萬倍以上的超高分辨率成像，是發(fā)表高水平論文的理想選擇。

四、 產(chǎn)品優(yōu)勢在實(shí)際應(yīng)用中的體現(xiàn)

1. 浮動式樣品臺——敏感樣品的“保護(hù)盾"

• 原理：使樣品與地電位隔離，極大減少了電子束轟擊和離子流對樣品的損傷。

• 受益場景：所有生物樣品、高分子材料、有機(jī)薄膜等。在沒有此功能的設(shè)備上，這些樣品容易出現(xiàn)收縮、開裂、起泡等現(xiàn)象。

2. 磁控濺射技術(shù)——均勻細(xì)膩鍍層的“保障"

• 原理：利用磁場約束等離子體，實(shí)現(xiàn)在較低氣壓和電壓下進(jìn)行高速濺射，形成的金屬膜附著力強(qiáng)、顆粒細(xì)小且分布均勻。

• 受益場景：高倍率觀察時(shí)，均勻細(xì)膩的鍍層不會掩蓋樣品的真實(shí)納米結(jié)構(gòu)。

3. 一體化緊湊設(shè)計(jì)——實(shí)驗(yàn)室空間的“優(yōu)化師"

• 價(jià)值：內(nèi)置真空泵，占地面積小，可放置于通風(fēng)櫥或工作臺角落，非常適合空間有限的教學(xué)實(shí)驗(yàn)室、共享平臺或繁忙的質(zhì)控實(shí)驗(yàn)室。

五、 局限性及選型邊界

MSP-1S是一款出色的常規(guī)制樣工具，但在以下場景下可能需要考慮更專業(yè)的設(shè)備：

• 需求分辨率：若經(jīng)常需要進(jìn)行>10萬倍的觀測，或從事前沿納米材料研究，其鍍膜顆粒度可能仍顯不足，應(yīng)考慮高中端濺射儀或蒸發(fā)鍍膜機(jī)。

• 需要鍍特定功能膜：如需要濺射鎢（W）、鉻（Cr）等粘附層，或進(jìn)行反應(yīng)濺射，需選擇如MSP-20TK等多功能型號。

• 樣品數(shù)量極大：其樣品室尺寸適合中小批量樣品，對于工業(yè)生產(chǎn)中需要一次處理數(shù)十個(gè)樣品的情況，效率可能不足。

總結(jié)

Shinkuu MSP-1S磁控濺射儀是連接樣品與高質(zhì)量SEM圖像的可靠橋梁。通過理解其在不同場景下的應(yīng)用方法，并靈活運(yùn)用其浮動樣品臺和多種靶材的特性，用戶能夠?yàn)榻^大多數(shù)非導(dǎo)電樣品制備出理想的導(dǎo)電層，從而釋放掃描電鏡的全部成像潛力。